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도핑
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| 반도체의 전기 전도(傳導)는 불순물의 영향을 강하게 받기 때문에 반도체공학에서는 함유(含有)된 불순물의 제어(制製)가 대단히 중요한 과제로 된다. 불순물 제어의 제1단계로는 결정(結晶)의 순화(純化)이다.... |
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센추리
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| 2001년 3월 소형 가스냉난방기 개발 제조기술을 도입하였고, 6월 살균기능 순동에어컨 냉각핀 특허를 획득하였다. 2005년 3월 상장 폐지되었고, 같은 해 4월 부도 처리되었다. |
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공기 분사 방식
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| 배출 가스가 고온일 때에 공기를 추가하여 아직 연소되지 않은 가스를 다시 연소시키기 위하여 배기변의 출구 직후에 에어 펌프(팬 타입이 많다)로 공기를 주입하는 방법. 이것을 실시하면 배출 가스 중의... |
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알루미늄 합금의 청정화
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| Cl2 가스는 독성이 강하므로 희석시켜 사용되는 것이 많으며, 페가스제, 카본제 등의 필터를 사용하여 여과시켜 제거한다. 용해와 주입 사이에 연속조업이 가능한 다수의 방법이 실용화되고 있다. |
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그리스하임법
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| 따라서 증류 가스의 온도를 200℃, 유리 질산량을 잔류물의 35% 정도로 하고, 산성 황산염의 용융 상태에서 꺼낸다. 95% 칠레 초석 1kg에 대해 93% 황산 1.08kg을 사용하고 95% 질산 0.726kg을 얻는다. 잔류물을... |
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제설비의 개요
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| 가스터빈 발전기를 계획하고 있다. | 자가발전용량 (自家發電容量) | 메인타워 | 1,500KVA×2태(台) + 750KVA×2태(台) | | 아토륨동(棟) | 1,000KVA×2태(台) | || 중앙감시설비 (中央監視設備) || | 전력, 에어컨... |
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기체크로마토그래피법
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| GC는 이동상으로 가스를 사용하며 시료가 주입구에 주입됨과 동시에 기화되어야 하므로 시료의 휘발성이 필요하다. 이러한 이유로 분석 가능한 시료의 분자량이 제한적이고, 열에 불안정한 물질은 분석이... |
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염소처리
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| 제거, 하수처리에서는 살균, 공업용수 처리에서는 암모니아의 제거 등에 사용된다. 염소는 독가스이므로 특히 취급에 주의하고 주입장치가 부적당할 때는 차아(次亞) 염소산염 등을 사용하는 것이 안전하다. |
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어닐링 기술
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| (ion) 주입 등에 수반된 손상의 어닐, MOS 소자(素子)의 경계면 특성개선을 위한 어닐 등이 중요하다. 이온 주입에 따르는 도너(donor) 또는... 이러한 결함을 회복하고 주입된 이온을 치환위치(置換位置)로... |
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어닐링
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| LSI 제작 프로세스에서는 이온 주입 등에 수반된 손상의 어닐, MOS 소자의 경계면 특성 개선을 위한 어닐 등이 중요하다. 이온 주입에... 이러한 결함을 회복하고 주입된 이온을 치환 위치로 배열하여... |
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